Wafer
SiC Wafer Portfolio
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n-type SiC Wafer
4H, 4° off-axis, n-type SiC Wafer
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将高纯度多晶SiC粉末经过升华、晶体生长、切割、研磨、清洗等过程制造而成的晶圆,为薄片形态。
直径为100mm & 150mm,主要用于Diode、MOSFET等大功率模块。
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SiC Epitaxy (n-type / p-type)
SiC 磊晶圆 (n-type/p-type)
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在抛光晶圆上采用真空蒸发的方式形成几um厚度的碳化硅单晶层。
对精密厚度、掺杂(Doping)、缺陷严格控制,是高效功率半导体生产的组成部分,需求量渐渐增加。
磊晶圆分为n-type与p-type的Sing-layer或Multi layer。
应用领域
Schottky Diode, Pin Diodes and Switches, High Current and Voltage MOSFETs / JFETs / BJTs
SiC Prime 晶圆等级
100mm, 150mm SiC晶圆是可以满足半导体工序中的最佳设计范围、性能、费用的高级晶圆。
SiC晶圆基片根据质量可分为Prime Standard、Prime Select、Prime Ultra三个等级。
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Prime Standard可在设计肖特基二极管(Schottky)或肖特基势垒二极管(Junction Barrier Schottky diodes)
等较低或中间程度额定电流时使用。
- - 100 mm : MPD (≤ 0.5 cm-2), EPD (≤ 12,000 cm-2), TED(≤ 9,000 cm-2), TSD (≤ 1,000 cm-2), BPD (≤ 2,000 cm-2)
- - 150 mm : MPD (≤ 1.0 cm-2), EPD (≤ 15,000 cm-2), TED(≤ 10,000 cm-2), TSD (≤ 3,000 cm-2), BPD (≤ 5,000 cm-2)
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Prime Select适合用于PIN二极管、开关或MOSFETs等比较精密的SIC元件。
- - 100 mm : MPD (≤ 0.2 cm-2), EPD (≤ 10,000 cm-2), TED(≤ 8,000 cm-2), TSD (≤ 800 cm-2), BPD (≤ 1,500 cm-2)
- - 150 mm : MPD (≤ 0.5 cm-2), EPD (≤ 12,000 cm-2), TED(≤ 9,000 cm-2), TSD (≤ 500 cm-2), BPD (≤ 4,000 cm-2)
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Prime Ultra可在设计最高质量的最顶级大功率设备时使用。
如金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFETs)、结型场效应晶体管(JFETs)、
双极性结型晶体管(BJTs)等,可用于3.3kV以上的大电流设备的设计。
- - 100 mm : MPD (≤ 0.1 cm-2), EPD (≤ 8,000 cm-2), TED(≤ 6,000 cm-2), TSD (≤ 500 cm-2), BPD (≤ 1,000 cm-2)
- - 150 mm : MPD (≤ 0.3 cm-2), EPD (≤ 9,000 cm-2), TED(≤ 8,000 cm-2), TSD (≤ 400 cm-2), BPD (≤ 3,000 cm-2)