SK실트론

300mm Epitaxial Wafer

Wafer

Semiconductor Value Chain

  • Poly Silicon POLY SILICON
  • Ingot / Wafer INGOT / WAFER
  • Patterned Wafer PATTERNED WAFER
  • Semiconductor SEMICONDUCTOR
  • Electronic Product ELECTRNIC PRODUCT
200mm
300mm
Polished Wafer 폴리시드 웨이퍼
고순도의 다결정 실리콘으로부터 용융, 결정성장, 절단, 연마, 세정 과정을 거쳐 제조된 웨이퍼로, 실리콘 결정의 얇은 판 형태로 제조됩니다.
200mm/300mm 직경으로 생산되며, 주로 DRAM/NAND Flash Memory와 같은 메모리 반도체의 제조에 사용됩니다.
200mm비메모리 반도체
Logic (Drive IC) Logic (Driver IC)
Sensor Sensor
300mm메모리 반도체
DRAM DRAM
FLASH (NAND) Flash(NAND)
200mm
300mm
Epitaxial Wafer 에피텍셜 웨이퍼
폴리시드 웨이퍼 위에 수 um 두께로 실리콘 단결정층을 증착한 웨이퍼입니다.
EPI웨이퍼는 Logic Device 및 CMOS 이미지센서 등 비메모리반도체에 사용되며, 차세대 웨이퍼로서 점차 수요가 늘어나고 있습니다.
200mm비메모리 반도체
Analog (PMIC) Analog (PMIC)
Power Discrete Power Discrete
CIS CIS
300mm비메모리 반도체
MPU MPU
CIS CIS
Logic (Drive IC) Logic (Driver IC)

Core Technology

SK실트론은 세계 최고 수준의 결정도, 평탄도, 청정도 기술력으로
더 높은 완성도가 요구되는 미래 시장과 글로벌 파트너의
다양한 요구에 고도화된 솔루션을 제공합니다.

  • 결정도 : CRYSTALLINITY CRYSTAL DEFECT FREE
    SK실트론은 자체 기술로 단결정 성장로를 설계하고
    실리콘의 결정 결함과 화학 조성을 정밀 제어해 고순도의
    결정 품질을 구현합니다
    • Core Tech. 1 고순도 결정 제조를 위한 성장로 설계 능력
    • Core Tech. 2 오염 및 결함을 제어하고 산소 농도를 통제하는 결정 기술
  • 평탄도 : FLATNESS SUPER FLAT SURFACE CONTROL
    물리적, 화학적 연마 기술을 통해 최상의 평탄도를 이끌어냅니다.
    • Core Tech. 1 웨이퍼의 평탄 산포도를 개선하는 형상 제어 기술
    • Core Tech. 2 웨이퍼 가공변질층을 제거하는 고평탄 확보기술
  • 청정도 : CLEANLINESS SMALL SIZE PARTICLE CONTROL
    고순도 세정기술로 오염도 zero의 무결점 실리콘 웨이퍼를 실현합니다
    • Core Tech. 1 불순물 1/100억 이하의 입자 제거 및 제어기술
    • Core Tech. 2 웨이퍼 표면과 벌크 내 메탈 제어 기술