E-Pro Link E-Sales Link

HOME > Á¦Ç°¼Ò°³ > Àü¹®¿ë¾î»çÀü

| | | | | | | | | | | | | | | | | | | | | | | | |
XPS
X-ray Photoelectron Spectroscopy. X¼±À̳ª Àڿܼ±¿¡ ÀÇÇØ ¿©±âµÈ ÀüÀÚÀÇ ¿¡³ÊÁö ¾çÀ» ÃøÁ¤ÇÏ¿© Àç·áÀÇ Á¶¼º°ú ºÒ¼ø¹°ÀÇ ºÐ¼®, SputteringÀ» ÅëÇØ ±íÀÌ ¹æÇâ ºÐÆ÷ ºÐ¼®, È­ÇÐ °áÇÕ »óŸ¦ ¾Ë ¼ö ÀÖ´Ù.
X-ray Photoelectron Spectroscopy
XPS. X¼±À̳ª Àڿܼ±¿¡ ÀÇÇØ ¿©±âµÈ ÀüÀÚÀÇ ¿¡³ÊÁö ¾çÀ» ÃøÁ¤ÇÏ¿© Àç·áÀÇ Á¶¼º°ú ºÒ¼ø¹°ÀÇ ºÐ¼®, SputteringÀ» ÅëÇØ ±íÀÌ ¹æÇâ ºÐÆ÷ ºÐ¼®, È­ÇÐ °áÇÕ »óŸ¦ ¾Ë ¼ö ÀÖ´Ù.
XRF
X-ray Fluorescent Analyzer. Incident X-ray¸¦ ¹ÌÁöÀÇ ½Ã·á¿¡ Á¶»çÇÏ¿© ½Ã·á³»ÀÇ ¿ø¼ÒµéÀÌ ¹æÃâÇÏ´Â Çü±¤ X-rayÀÇ Intensity¸¦ ÃøÁ¤ÇÔÀ¸·Î½á ±¸¼º ¿ø¼ÒµéÀÇ ³óµµ³ª µÎ²² µîÀ» ÃøÁ¤ÇÏ´Â Àåºñ
Buried layer
¿¡ÇÇÃþÀ» Ű¿ì±â Á÷Àü¿¡ PÇü ±â°ü¿¡ N+ È®»êÀ» ÇÏ´Â °Í. ¼ÒÀÚÀü·ù °æ·Î¿¡¡¡ÀúÀúÇ×À» Á¦°øÇÑ´Ù. º¸ÅëÀÇ ¸Å¸ôÃþ µµÆÝÆ®´Â ¾ÈƼ¸óÀ̳ª ºñ¼ÒÀÌ´Ù.
Diode
Àü·ù¸¦ ÇÑÂÊ ¹æÇâÀ¸·Î¸¸ È帣°Ô ÇÏ´Â µÎ ´ÜÀÚ ¼ÒÀÚ. ´ÙÀÌ¿Àµå´Â ¹ÝµµÃ¼ÀÇ PÇü°ú NÇü Áö¿ªÀÇ ±³Á¡¿¡¼­ »ý±ä´Ù.
Silicon Nitride(Si©ýN©þ)
600¡É-900¡ÉÀÇ ¿Âµµ¿¡¼­ ¿þÀÌÆÛ¿¡ È­ÇÐÀûÀ¸·Î ÀûÃþµÇ´Â º¸È£¸·. ÀÌ´Â ¼ÒÀÚ¸¦ ¿À¿°À¸·ÎºÎÅÍ º¸È£ÇÑ´Ù.
Reactor
¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤¿¡ ¾²ÀÌ´Â ¹°ÁúÀ» ÀûÃþÇÏ´Â ÀåÄ¡. º¸Åë ¿¡ÇÇ ¹ÝÀÀ±â. Vapox ¹ÝÀÀ±â. ÁúÈ­¸· ¹ÝÀÀ±â°¡ ÀÖ´Ù.
CCD
Charge Coupled Device. Àü±ØÀÇ Àü¾ÐÀ» Á¶ÀýÇØ¼­ ÀüÇϸ¦ ´Ù¸¥ Àü±ØÀ¸·Î ¿òÁ÷ÀÏ ¼ö Àִ ǥ¸é À§ÀÇ Àý¿¬ Àü±Ø¿¡ ÀÇÇÑ ¹ÝµµÃ¼³» ÀüÇÏÀÇ ÀúÀå¿¡ ÀÇÇØ µ¿ÀÛÇÏ´Â ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀÚ.