HOME > 제품소개 > 전문용어사전
 |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
| |  |
|
IC(integrated circuit)
작은 면적에 많은 전자회로가 서로 연결되어 하나의 회로로서 기능을 갖게 한 집적 회로.
|
|
Impurity
불순물. donor와 accepter와 같이 특정한 목적으로 기판에 주입하는 물질.
|
|
Ingot
용융상태에서 고형화된 실리콘 단결정 막대.
|
|
Inking
조립공정에 대비하여 양, 불량 칩을 구분하기 위해 고온 경화성 ink를 사용하여 불량 chip에 점을 찍는 공정.
|
|
Inspection
웨이퍼의 이상 유무를 현미경이나 육안으로 검사하는 공정.
|
|
Integrated circuits(IC)
집적회로. 반도체로 된 하나의 칩에 몇 개에서 수천 개의 소자로 구성된 전기회로.
|
|
Ion
전자를 잃거나 얻어서 전하를 가진 입자가 된 원자(음,양이 있다).
|
|
Ion implantation
원하는 전기적 특성을 얻기 위해 고전압 이온 충격을 써서 반도체의 조절된 지역에 선별된 불순물을 넣는 공정.
|
|
IR
implantation resistor의 약어로서 photo에서 확산까지의 공정을 말한다.
|
|
Isolation
표준 바이폴라 회로 제조의 두번째 마스크. 격리 IR공정에서 예치된 지역의 실리콘에 보론을 확산시켜 전기적으로 분리되거나 고립된 지역을 만든다.
|
|
Isopropyl alcohol
반도체 공정에서 최종 린스나 드라이어에 쓰이는 용제.
|
CCD
Charge Coupled Device. 전극의 전압을 조절해서 전하를 다른 전극으로 움직일 수 있는 표면 위의 절연 전극에 의한 반도체내 전하의 저장에 의해 동작하는 반도체 소자.
Dose
ion implantation 등 충격에 의해서 반도체의 불순물을 주입하는 것을 dose라고 하며, 그 주입량을 dose량이라고 한다.
Paddle
Chip이 얹혀지는 L/F의 부분. Chip Size에 따라 Paddle Size가 결정된다.
Source
게이트 및 드레인과 함께 FET나 유니폴라의 세지역의 하나.
Junction transistor
P/N접합으로 형성된 바이폴라 트랜지스터. 아는 FET나 점접촉 트랜지스터와 구분하는 데 쓰는 말이다.
